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半导体结构的形成方法
编号:S000018546 刷新日期: 有效日期至:2020-11-01 浏览:2400 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 技术领域:智能制造 - 装备制造业
转让类型:科技服务
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
一种半导体结构的形成方法,包括步骤:提供基底,在所述基底上形成氮化硅层和氧化硅层交替分布的多层堆叠结构;对所述堆叠结构进行等离子体刻蚀,偏置功率源以脉冲的方式输出偏置功率,当偏置功率源打开时,刻蚀部分所述堆叠结构,形成刻蚀孔,当偏置功率源关闭时,在已形成的刻蚀孔的侧壁和底部形成聚合物,重复偏置功率源打开和偏置功率源关闭的过程,直至形成通孔。刻蚀步骤和聚合物形成步骤交替进行,刻蚀形成部分深度的刻蚀孔后,会相应的在刻蚀孔的侧壁形成聚合物,后续沿刻蚀孔继续刻蚀堆叠结构时,保护已形成的刻蚀孔不会被过刻蚀,从而使最终形成的通孔保持垂直的侧壁形貌。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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