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> 技术详情
半导体器件及其制造方法
编号:S000018518
刷新日期:
有效日期至:
2020-12-25
浏览:
2733
次
对接邀请:
0
次
意向价格:
面议
所在区域:
中国 -
技术领域:
智能制造 - 装备制造业
转让类型:
科技服务
专利类型:
发明专利
技术成熟度:
可以量产
供应描述
本发明提供了一种半导体器件及其制造方法。一种提供紧凑性以及增大的漏极耐压的半导体器件。该半导体器件包括:栅电极;源电极,其与栅电极隔开;漏电极,在平面图中,其相对于栅电极与源电极相对地定位,并且与栅电极隔开;至少一个场板电极,在平面图中,其位于栅电极和漏电极之间,通过绝缘膜设置在半导体衬底上方,并且与栅电极、源电极和漏电极隔开;以及至少一个场板接触,其设置在绝缘膜中,将场板电极耦合到半导体衬底。在平面图中,场板电极从场板接触至少向着源电极或向着漏电极延伸。
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No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia
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认证方式:
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