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半导体器件及其制造方法
编号:S000018518 刷新日期: 有效日期至:2020-12-25 浏览:2255 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 技术领域:智能制造 - 装备制造业
转让类型:科技服务
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
本发明提供了一种半导体器件及其制造方法。一种提供紧凑性以及增大的漏极耐压的半导体器件。该半导体器件包括:栅电极;源电极,其与栅电极隔开;漏电极,在平面图中,其相对于栅电极与源电极相对地定位,并且与栅电极隔开;至少一个场板电极,在平面图中,其位于栅电极和漏电极之间,通过绝缘膜设置在半导体衬底上方,并且与栅电极、源电极和漏电极隔开;以及至少一个场板接触,其设置在绝缘膜中,将场板电极耦合到半导体衬底。在平面图中,场板电极从场板接触至少向着源电极或向着漏电极延伸。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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