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半导体器件及其制作方法
编号:S000018496 刷新日期: 有效日期至:2020-10-15 浏览:2366 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 四川 技术领域:智能制造 - 装备制造业
转让类型:合作研发
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
本发明公开了一种半导体器件及其制作方法,该半导体器件包括:引线框架;第一垂直型晶体管芯片,包括具有第一源极电极、第一漏极电极和第一栅极电极的第一垂直型晶体管,其中第一垂直型晶体管芯片附着至引线框架,第一源极电极电耦接至引线框架;第二垂直型晶体管芯片,包括具有第二源极电极、第二漏极电极和第二栅极电极的第二垂直型晶体管,其中第二垂直型晶体管芯片堆叠在第一垂直型晶体管芯片上,第二源极电极电耦接至第一垂直型晶体管的第一漏极电极。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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