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> 技术详情
半导体器件及其制作方法
编号:S000018496
刷新日期:
有效日期至:
2020-10-15
浏览:
2207
次
对接邀请:
0
次
意向价格:
面议
所在区域:
中国 - 四川
技术领域:
智能制造 - 装备制造业
转让类型:
合作研发
专利类型:
发明专利
技术成熟度:
可以量产
供应描述
本发明公开了一种半导体器件及其制作方法,该半导体器件包括:引线框架;第一垂直型晶体管芯片,包括具有第一源极电极、第一漏极电极和第一栅极电极的第一垂直型晶体管,其中第一垂直型晶体管芯片附着至引线框架,第一源极电极电耦接至引线框架;第二垂直型晶体管芯片,包括具有第二源极电极、第二漏极电极和第二栅极电极的第二垂直型晶体管,其中第二垂直型晶体管芯片堆叠在第一垂直型晶体管芯片上,第二源极电极电耦接至第一垂直型晶体管的第一漏极电极。
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机构地址:
No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia
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认证方式:
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