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用于半导体制造设备的清洗设备、清洗半导体制造设备的方法以及制造半导体器件的方法
编号：S000018432
刷新日期：
有效日期至：
2020-10-09
浏览：
2472
次
对接邀请：
0
次
意向价格：
面议
所在区域：
中国 -
技术领域：
智能制造 - 装备制造业
转让类型：
技术转让
专利类型：
发明专利
技术成熟度：
可以量产
供应描述
一种用于半导体制造设备的清洗设备包括：氧化物移除装置，其移除粘附于半导体制造设备的构件的沉积物的表面上的氧化物；以及沉积物移除装置，其在通过氧化物移除装置移除表面上的氧化物之后移除沉积物。
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机构地址：
No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia
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认证方式：
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