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氧化物半导体薄膜及制备方法、薄膜晶体管及制备方法
编号:S000018352 刷新日期: 有效日期至:2020-10-28 浏览:2300 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 技术领域:智能制造 - 装备制造业
转让类型:合作研发
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
本发明公开了涉及薄膜晶体管领域的氧化物半导体薄膜的制备方法,包括以下步骤:(1)制备前驱体溶液,(2)制备反应溶液,在前驱体溶液中加入带有OH或者OR基团的催化剂,搅拌使其充分溶解得到反应溶液;(3)制备氧化物半导体薄膜。本发明还公开了采用该方法制备的氧化物半导体薄膜,包含该氧化物半导体薄膜的薄膜晶体管以及该薄膜晶体管的制备方法。本发明的氧化物半导体薄膜的制备方法通过在前驱体溶液中加入催化剂,改变了溶液法制备半导体薄膜的反应过程,解决了现有技术中采用溶液法制备的氧化物薄膜受前驱体成膜性等因素影响形成的薄膜晶体管的性能不理想、载流子迁移率低的问题。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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