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制造半导体器件的方法
编号:S000018283 刷新日期: 有效日期至:2020-12-13 浏览:2069 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 技术领域:智能制造 - 装备制造业
转让类型:科技服务
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
本发明提供一种制造半导体器件的方法,包括:通过对半导体元件的第一电极的表面进行处理来形成包括晶体的第一层;通过对该半导体元件安装在其上的安装元件的第二电极的表面进行处理来形成包括晶体的第二层;在第一温度下对在第一层上或第一层中存在的第一氧化膜以及在第二层上或第二层中存在的第二氧化膜进行还原,第一温度低于在第一电极中包含的第一金属以固态进行扩散的第二温度且低于在第二电极中包含的第二金属以固态发生扩散的第三温度;以及通过固相扩散将第一层和第二层彼此接合。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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