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> 技术详情
半导体集成电路
编号:S000018073
刷新日期:
有效日期至:
2020-12-11
浏览:
2880
次
对接邀请:
0
次
意向价格:
面议
所在区域:
中国 -
技术领域:
智能制造 - 装备制造业
转让类型:
合作研发
专利类型:
发明专利
技术成熟度:
可以量产
供应描述
本发明提供一种半导体集成电路,作为差动输入晶体管的P沟道型MOS晶体管(M1、M2)为了降低噪声水平,具有薄的栅极氧化膜。保护这些P沟道型MOS晶体管(M1、M2)不被过电压损坏的保护电路,构成为包括P沟道型MOS晶体管(M3、M4)。P沟道型MOS晶体管(M3)是保护P沟道型MOS晶体管(M1)不被过电压损坏的第1保护晶体管,串联连接在P沟道型MOS晶体管(M1)的漏极侧。P沟道型MOS晶体管(M4)是保护P沟道型MOS晶体管(M2)不被过电压损坏的第2保护晶体管,串联连接在P沟道型MOS晶体管(M2)的漏极侧。由此,可有效地降低噪声水平。
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机构地址:
No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia
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认证方式:
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