本发明钼合金膜和铟氧化膜腐蚀液组成物质包括过氧化氢、氟化物、具有磺酸基的化合物、防腐剂、辅助氧化剂、双氧水稳定剂和水。本发明能够在稳定钼合金膜、铟氧化膜或钼合金膜蚀刻速度的同时，降低像素电极下部的绝缘膜SiNx的蚀刻速度，并减少后续对准层涂抹工序中由于涂抹不均而造成的不良反应。