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> 技术详情
一种微波等离子体化学气相沉积装置
编号:S000015353
刷新日期:
有效日期至:
2020-11-14
浏览:
2249
次
对接邀请:
0
次
意向价格:
面议
所在区域:
中国 - 陕西
技术领域:
智能制造 - 装备制造业
转让类型:
合作研发
专利类型:
发明专利
技术成熟度:
可以量产
供应描述
本发明公开一种微波等离子体化学气相沉积装置,包括用于导入微波的波导装置,所述波导装置与设置在其下方的反应室连接,所述反应室的在圆周方向上均匀设置有多个反应气体入口;在所述波导装置与反应室的连接处水平设置有隔离窗,所述隔离窗用于将波导装置与反应室隔离开,并使所述反应室保持预设定的真空度;在所述反应室内部同轴设置用于支撑衬底托的样品台,在所述衬底托的周围开设有供反应气体流出反应室的气体通道。本发明解决现有技术中,掺杂元素不能有效掺入到衬底表面形成的薄膜中,致使掺杂气体的使用效率低,成膜效果不理想的技术问题。本发明主要应用与等离子体加工领域。
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No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia
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认证方式:
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