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计算机磁头、磁盘表面抛光和改性技术研究

编号：S000000123 刷新日期：有效日期至：2018-10-29 浏览：2411 次对接邀请：0次

意向价格：面议

行业分类：软件和信息技术服务业

所在区域：中国 - 北京技术领域： -

转让类型：技术转让

专利类型：非专利技术成熟度：可以量产

供应描述

本项目主要针对硬盘储存密度提高过程所面临的表面改性和抛光技术开展了研究。成功地解决了计算机硬盘磁头表面的亚纳米级抛光液的制备、磁头表面的改性和磁盘基片CMP抛光液研制中的多个技术难点。开发出纳米金刚石粉研磨液的硬盘磁头表面的抛光技术和工艺。通过本项目研究,开发出计算机磁盘基片的亚纳米级抛光技术,研制出有自主知识产权的抛光液和工艺。确定了表面抗湿膜和X-1P薄膜的制备技术,大幅度提高了磁头表面的净洁性,迟滞了磁头材料Al_2O_3与PFPE润滑剂间的化学反应,为提高硬盘使用寿命起到了重要作用。

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